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53 - シールドルームの磁気遮蔽解析
Module: FQ
　
シールドルームの磁気遮蔽解析:概要図
拡大図
概要
シールドルームは、外部磁界の影響から精密機器を保護するため、磁束を遮断する特別な処理を壁に施した閉空間です。シールドルームの開口部の位置や、電源ケーブルの位置、精密機器の配置場所、外部磁場の発生要因の違いなどにより、シールドルーム内における外部磁界の影響は異なります。
さまざまな外部磁界が印加されたときに、シールドルーム内にどのように磁束が侵入するかという３次元的、かつ、時間変化を伴う評価をするためには有限要素法を用いた磁界解析が有用です。
ここでは、外部磁界が加えられた際のシールドルームによる磁気遮蔽現象を扱い、磁束密度分布を確認します。

磁束密度分布
シールドルームの磁気遮蔽解析：磁束密度分布
拡大図		 シールドルームおよび周辺の空気領域の磁束密度分布を図1に示します。図中の矢印の向きに与えられた外部磁界は、シールドルームの壁面に沿って磁束が流れるためシールドルーム内の磁束密度は小さくなります。また、図中Z方向に一様な外部磁界はシールドルーム近辺で壁面を流れようとするため図中の赤枠の箇所に磁束が集中し磁束密度が高くなり、図中の青枠の箇所では磁束密度が低くなっています。

磁束密度波形
各評価軸における磁束密度波形を図2、図3に示します。位置12 (m)から15 (m)の間にシールドルームがあるため、その間で磁気遮蔽により磁束密度が外部に比べて低くなっています。外部磁界の大きさ50 (μT)に対し、シールドルーム内の磁束密度は0.9 (μT)であり、磁気遮蔽効果として約98 (%)遮蔽されていると言えます。
シールドルームの磁気遮蔽解析：磁束密度波形
拡大図		 シールドルームの磁気遮蔽解析：磁束密度波形
拡大図

　

Updated: 2012-03-01
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