磁気過渡解析による薄膜記録ヘッド設計

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ソニー株式会社 北村 健一

概要

近年、磁気ヘッドの記録周波数の増加に伴い、渦電流による記録磁界の位相遅れの影響が顕著となっている。この位相遅れを改善し、高記録周波数に適した磁気ヘッドの開発を行うために、シミュレーションによる磁界解析および最適設計は有効な手法である。
今回我々は薄膜ヘッドの禍電流過渡解析を行うにあたりANSYSおよびJMAGそれぞれの長所を考察した。その結果、 Solid Modeler/mesherであるANSYSPre/Postを用いてメッシュモデルの作成を行い、そのモデルをNASTRAN形式のファイルを介してJMAG-Worksに読み込み、計算を行う方針で解析を行った。この解析結果を用いてWrite Time Shiftで渦電流による記録磁界の位相遅れを評価し、ヨークの長さおよび物性の異なるモデルでの結果を比較して高記録周波数に適したヘッド設計を行った。
この結果、ヘッドを短磁路化すること、材質にhigh ρのNiFeを用いることでbit周波数lGbpsに対応したヘッド設計が可能であることが示唆された。

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