株式会社デンソー
基盤技術開発部 CAE技術開発室
鄭 淅化
概要
設計する形状パラメータを事前に設定する必要がなく、究極の形状が得られるトポロジー最適化が注目されており、電磁場応用製品でもその活用が広まっている。JMAGではON/OFF法をベースとするNGnet法が実装され、その活用事例も多数報告されている。一方で、20年の新バージョンでは随伴解析をベースとする密度法が新たに実装された。本発表では、JMAGの密度法の適用事例を通じて、その効果と課題について報告する。
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